中图法 > 数理科学与化学 > 晶体学
分类号：O7
下级分类：
| 分类号 | 分类名称 |
|---|---|
| O71 | 几何晶体学 |
| O711 | 晶体对称性 |
| O711+.1 | 对称性理论 |
| O711+.2 | 点群和有限图形的对称性 |
| O711+.3 | 空间群和点阵图形的对称性 |
| O711+.4 | 晶系、晶类 |
| O712 | 点阵和倒易点阵 |
| O713 | 晶体外形和晶体投影 |
| O713+.1 | 测角技术与仪器 |
| O713+.2 | 晶体投影 |
| O713+.3 | 晶体外形规律 |
| O713+.4 | 晶体外形数据 |
| O713+.5 | 晶体习性 |
| O72X | 射线晶体学 |
| O721 | 晶体对Ｘ射线、电子和中子的衍射理论 |
| O722 | 衍射实验及数据处理 |
| O722+.1 | 劳厄法 |
| O722+.2 | 周转法、回摆法及魏森伯法 |
| O722+.3 | 倒易点阵直接照相法 |
| O722+.4 | 粉末法 |
| O722+.5 | 低角散射（小角散射） |
| O722+.6 | 漫散射 |
| O722+.7 | 电子衍射与中子衍射 |
| O722+.8 | 扩展Ｘ射线吸收精细结构（EXAFS） |
| O723 | 结构分析 |
| O723+.1 | 粉末法中单胞的确定 |
| O723+.2 | 空间群的测定 |
| O723+.3 | 傅立叶综合法（帕特森投影及电子云分布法）及重原子法 |
| O723+.4 | 周相问题 |
| O723+.5 | 结构分析所用的模拟及计算工具 |
| O723+.6 | 结构参数的准确测定 |
| O723+.7 | 点阵常数的准确测定 |
| O73 | 晶体物理 |
| O731 | 晶体的物理性质 |
| O732 | 晶体的各向异性 |
| O732+.1 | 晶体的矢量和张量性质 |
| O733 | 晶体的力学性质 |
| O733+.1 | 点阵力学 |
| O733+.2 | 弹性与滞弹性 |
| O733+.3 | 范性形变 |
| O733+.9 | 其他 |
| O734 | 晶体的光学性质 |
| O734+.1 | 电光、弹光、非线性光学效应 |
| O734+.2 | 折射、反射 |
| O734+.3 | 发光现象 |
| O735 | 晶体的声学性质 |
| O736 | 晶体的热学性质 |
| O737 | 晶体的磁学性质 |
| O738 | 晶体的电学性质 |
| O739 | 晶体物理实验 |
| O74 | 晶体化学 |
| O741 | 晶体结构数据（结构报告） |
| O741+.1 | 金属和合金体系 |
| O741+.2 | 矿物 |
| O741+.3 | 无机物 |
| O741+.4 | 硅酸盐 |
| O741+.5 | 氧化物体系 |
| O741+.6 | 有机物 |
| O742 | 晶体化学的规律性 |
| O742+.1 | 晶体中的化学键 |
| O742+.2 | 原子半径、离子半径及极化率 |
| O742+.3 | 密堆积和配位 |
| O742+.4 | 同晶型和多晶型 |
| O742+.5 | 化学组成和结构间的关系 |
| O742+.6 | 水合物和结晶水 |
| O742+.7 | 晶体中的氢键 |
| O742+.8 | 有序、无序转变 |
| O742+.9 | 结构与性能间的关系 |
| O743 | 系统晶体化学 |
| O743+.1 | 元素的晶体化学 |
| O743+.2 | 金属和合金晶体化学 |
| O743+.3 | 无机物晶体化学 |
| O743+.4 | 硅酸盐晶体化学 |
| O743+.5 | 有机物晶体化学 |
| O743+.51 | 高聚物晶体化学 |
| O743+.52 | 蛋白质、生化物质晶体化学 |
| O743+.53 | 络合物、螯合物和元素有机物晶体化学 |
| O75 | 非晶态和类晶态 |
| O751 | 非晶态 |
| O752 | 丝缕结构 |
| O753 | 类晶态 |
| O753+.1 | 微晶 |
| O753+.2 | 液晶 |
| O753+.3 | 准晶体 |
| O754 | 无定形态和琉璃态 |
| O756 | 非晶态和类晶态材料的应用 |
| O76 | 晶体结构 |
| O761 | 复相在晶体中的分布 |
| O762 | 孪生晶体 |
| O763 | 晶粒间界 |
| O764 | 粒度分布 |
| O765 | 晶体中的应力 |
| O766 | 观察、分析晶体结构的实验方法 |
| O766+.1 | 显微镜技术 |
| O766+.2 | 光测弹性学 |
| O766+.3X | 射线方法 |
| O766+.4 | 衍射方法 |
| O77 | 晶体缺陷 |
| O77+1 | 点缺陷、面缺陷、体缺陷 |
| O77+2 | 位错 |
| O77+3 | 色心 |
| O77+4 | 高能辐射在晶体中的效应 |
| O77+5 | 杂质 |
| O77+9 | 其他缺陷 |
| O78 | 晶体生长 |
| O781 | 晶体生长理论 |
| O782 | 晶体生长工艺 |
| O782+.1 | 溶液法 |
| O782+.2 | 高温超高压法 |
| O782+.3 | 焰熔法（维尔纳叶法） |
| O782+.4 | 熔盐法（助熔剂法） |
| O782+.5 | 提拉法 |
| O782+.6 | 浮区法 |
| O782+.7 | 气相-固相反应 |
| O782+.8 | 固相-固相反应、应变退火法 |
| O782+.9 | 其他生长方法 |
| O783 | 再结晶 |
| O784 | 晶须 |
| O785 | 单晶体的检验 |
| O785+.1 | 单晶体的定向 |
| O785+.2 | 锥光偏振仪技术 |
| O785+.3X | 射线拓扑技术 |
| O785+.4 | 电子自旋共振技术 |
| O785+.5 | 电子探针分析技术 |
| O785+.6 | 分光光度计技术 |
| O785+.7 | 位错密度的测定 |
| O786 | 晶体加工 |
| O787 | 区域提纯（区熔提纯） |
| O79 | 晶体物理化学过程 |
| O791 | 扩散 |
| O792 | 相变 |
| O793 | 表面现象和表面性能 |
| O794 | 玻璃的晶化 |
| O795 | 晶化过程的热力学与动力学 |
| O799 | 应用晶体学 |